在反应室里，气态反应物经化学反应生成固态物质并沉积在硅片表面的薄膜沉积技术，被称为CVD（化学气相沉积）。它有一个基本特征：CVD工艺中反应物必须以气相形式参与反应，配置特气柜的好处就体现在这上面
气体的传送就需要用到供气系统，而这些含薄膜组成原子气体大多是特种气体，具有一定的危险性，如SiNx薄膜，常作为集成电路最后的钝化保护层，提高集成电路的可靠性，所以，需要采用特气系统，配置特气柜。
CVD配置特气柜的好处：
1. 特种气体在全自动特气柜(GC)中，使用前会经过多次自动吹扫，避免被气体杂质污染，保证气体原材料的纯度；
2. 全自动特气柜（GC）以PLC为控制主体，配合触摸屏进行系统显示和设定，可自动切换供气，保持连续稳定高纯度气体输送，保证实验或生产正常进行；
3. 全自动特气柜（GC）的柜体板材厚度不低于2.5mm，有防腐蚀涂层，在柜门关闭时，气瓶柜内部是处于负压状态，柜内的排风换气的频率不低于300次/H， 警侦测警 功能齐全，在紧急情况下会自动安全切断（当设定 警信号被触发时），保障生产安全和人员安全。
以上，便是CVD（化学气相沉积）配置特气柜的一些好处的简单介绍，更多气体应用资讯，请尽情期待，感谢您的阅读！
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