电子工业、半导体制造用电子气体的分类

掺杂气:

AsH3、PH3、GeH4、B2H6、AsCl3、AsF3、H2S、BF3、BCl3、SeH2、SbH3、(CH3)2Te、(CH3)2Cd、(C2H5)2Cd、PCl3、(C2H5)2Te

晶体生长气:

SiH4、SiH2Cl2、SiHCl3、SiCl4、B2H6、BBr3、BCl3、AsH3、PH3、GeH4、TeH2、(CH3)3Al、(C2H5)3Al、(CH3)3As、(C2H5)3As、(CH3)2Hg、(CH3)P、(C2H5)3P、SnCl4、GeCl4、SbCl5、

AlCl3、Ar、He、H2

气相蚀刻气:

CL2、HCl、HF、HBr、SF6

等离子蚀刻气:

SIF4、CF4、C3F8、CHF3、C2F6、CClF3、O2、C2ClF5、NF3、SF6、BCl3、HFCl2、N2、He、Ar

离子束蚀刻气:

C3F8、CHF3、CClF3、CF4

离子注入气:

AsF3、PF3、PH3、BF3、BCl3、SiF4、SF6、H2、N2

化学气相淀集气:

SiH4、SiH2Cl2、SiCl4、NH3、NO、O2

平衡气:

N2、Ar、He、H2、CO2、N2O、O2

外延气:

SiH4、SiH2Cl2、SiCl4、Si2H6、HCl、PH3、AsH3、B2H6、He、H2、N2、Ar

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